大理石平臺(tái)定做的注意事項(xiàng)和拋光的意義
一、大理石平臺(tái)的構(gòu)成
大理石平臺(tái)定做:是用 的石質(zhì)材料制成的 基準(zhǔn)測量工具,花崗石平臺(tái)對(duì)儀器儀表、 工具、機(jī)械制件的檢驗(yàn),都是理想的基準(zhǔn)面,特別是用于的測量方面。
大理石平臺(tái):取材于地下的巖石層,經(jīng)過億萬年自然時(shí)效,形態(tài)極為穩(wěn)定,不用擔(dān)心因常規(guī)的溫差而發(fā)生變形。花崗石平臺(tái)經(jīng)嚴(yán)格物理試驗(yàn)和選擇的花崗石料,結(jié)晶細(xì)密,質(zhì)地堅(jiān)硬。由于花崗石系非金屬材料,磁性反應(yīng),亦無塑性變形?;◢徥脚_(tái)其,因此精度保持性好。
建筑行業(yè)的朋友們應(yīng)該都對(duì)大理石這種石材很熟悉,尤其是從事地板、墻面裝飾的朋友們, 是每天都要和花崗巖打交道?;◢弾r是一種火山爆發(fā)時(shí)的熔巖在 溫度下膨脹隆起到地殼表面,但是又沒有噴出,而是在地底冷卻凝固之后形成的,分布很廣,并且具有的硬度和,因此在生活中的應(yīng)用也很多?;◢弾r應(yīng)用于建筑裝飾和工業(yè)制造中除了起到裝飾作用,還被用作工業(yè)制造的各種量具。
二、大理石平臺(tái)的光潔度加工方法
大理石平臺(tái)的臺(tái)面是經(jīng)過人工研磨的,有的客戶會(huì)感覺表面比較粗糙,如果想達(dá)到一種光滑的感覺,那就要對(duì)大連大理石平臺(tái)進(jìn)行光潔度拋光的;
大理石平臺(tái)拋光是石材護(hù)理晶面處理的前一道工藝流程或石材光板加工的一道程序。是如今石材護(hù)理的重要的工藝流程之一,它不同于傳統(tǒng)意義上清潔公司業(yè)務(wù)范圍的大理石清洗打蠟拋光。
一、大理石拋光的現(xiàn)實(shí)意義:
1、大理石在經(jīng)過拋光磨塊拋光后,光度可達(dá)90-100度,還原了石材出廠時(shí)的光度,實(shí)現(xiàn)了石材價(jià)值再現(xiàn)。晶面處理護(hù)理時(shí),可以 省時(shí)、省力、節(jié)約成本, 具能。大理石打蠟拋光后,其表面光度下降,模糊不清晰,降低了石材的功能價(jià)值,不具觀賞性。
2、由以上本質(zhì)與表象區(qū)別可以發(fā)現(xiàn):大理石打蠟拋光 被淘汰,淡出市場。由于大理石打磨拋光晶面護(hù)理的工藝原理與方法 、能使大理石 具觀賞性和延長其使用壽命。
二、大理石拋光與大理石打蠟的區(qū)別:
1、本質(zhì)區(qū)別:
a、大理石磨塊拋光是石材晶面處理的前奏或石材加工中 的一道工藝流程。其主要原理是利用由無機(jī)酸、金屬氧化物等物質(zhì)合成的壓制磨塊配合機(jī)械磨盤的壓力、高速磨削力、摩擦熱能,水的作用在比較光滑的大理石表面進(jìn)行物理、化學(xué)化合作用,從而形成新的光亮晶體層。此晶體層具有超亮的、清晰的光度,光度可達(dá)90-100度。此晶體層是石材表層(1-2mm厚)的改性化合晶體層。
b、大理石清洗是大理石打蠟拋光的前奏,大理石清洗打蠟拋光是屬于80--90年代初期比較流行的大理石清潔保養(yǎng)保護(hù)措施,如今已經(jīng)失去市場和存在的意義。它的本質(zhì)是在新鋪石材(拋光板)面上覆蓋的一種丙烯酸樹脂與乳液的聚合物的薄薄涂層,就是我們常說的水蠟或地板蠟。再經(jīng)過高速、低壓力的拋光機(jī)配合纖維墊在石材表面摩擦,使樹脂涂層 加光亮的一個(gè)過程。由于產(chǎn)品的 新,后來又出現(xiàn)了特光蠟、免拋蠟等,此涂層就類似于木地板上油的清漆。
c、大連大理石平臺(tái)護(hù)理晶面處理前的磨塊拋光工藝是石材表層與化學(xué)物的物理和化合作用過程。石材表層與底層 化合成一個(gè)整體,不存在脫離層。
d、大理石打蠟拋光上面的蠟層是附著于石材表面的,一層樹脂膜,與石材本身不存在化合反應(yīng)。此蠟?zāi)涌捎玫镀p輕一鏟,可以將蠟?zāi)は麟x于石材表面。
2、表象區(qū)別:
a、大理石磨塊拋光是石材理護(hù)理晶面處理的前奏,石材護(hù)理拋光后光度高、清晰度高,、耐踩,不易刮花,是石材使用功能的真實(shí)體現(xiàn)和價(jià)值延伸。
b、打蠟拋光后的光度低,光度不清晰、而且很模糊,不、不耐水,易刮花、氧化變黃使石材本質(zhì)形象降低。
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