超   運(yùn)動平臺自問世以來就被應(yīng)用到各大，比如機(jī)械   ，設(shè)備，交通設(shè)備以及部分有關(guān)      的。近年來，很多   機(jī)構(gòu)，部分企業(yè)，以及高等學(xué)府，也都逐漸加大   力度，將大量的人力物力財(cái)力投入到超   運(yùn)動平臺的   實(shí)驗(yàn)中，爭取生產(chǎn)制造出出精度   高，   穩(wěn)定的平臺。

國內(nèi)   平臺的發(fā)展單位主要集中在   院所，和高等學(xué)府。哈爾濱工業(yè)大學(xué)目前在大力研制宏微動直線平臺，具體思路是，大行程通過宏動臺進(jìn)行控制，要求但是精度略低，同時協(xié)同配合微動臺進(jìn)行小行程控制，微動臺采用FPGA實(shí)現(xiàn)VME總線協(xié)議的解析，控制程序可以實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)六自由度算法解禍控制算法，同時運(yùn)動控制卡與霍爾傳感器進(jìn)行通信確定位置，較后通過   的控制算法的調(diào)試，達(dá)到   控制的目的。這種控制策略可以在精度要求的前提下，提高運(yùn)動速度，進(jìn)而提高加工效率目前可實(shí)現(xiàn)15mm的定位精度。同時清華大學(xué)也與企業(yè)合作，共同研制，其采用氣浮臺，減少了摩擦的干擾，提高了精度，同時該   團(tuán)隊(duì)還采用了雙頻激光干涉儀技術(shù)，目的在于分別對高低速的運(yùn)動狀態(tài)下進(jìn)行位置反饋，目前   結(jié)果的精度可達(dá)12mm。

   機(jī)械平臺作為的光學(xué)投影系統(tǒng)的重要組成部分，其主要功能為配合掩模臺系統(tǒng)在曝光過程中的掃描運(yùn)動，對光源，光強(qiáng)進(jìn)行控制。這樣可以使定量的光照強(qiáng)度進(jìn)入到指定的曝光區(qū)域內(nèi)，進(jìn)而對硅片上的某點(diǎn)進(jìn)行指定的曝光掃描。但是在掃描曝光的過程中，往往會出現(xiàn)   的光強(qiáng)出現(xiàn)在指定的曝光視場范圍以外，這樣就會造成相鄰的的兩個曝光視場部分重合，進(jìn)而損失部分光強(qiáng)與劑量，這也是導(dǎo)致降低生產(chǎn)精度的重要因素之一。   機(jī)械平臺的主要作用體現(xiàn)在掃描曝光過程中對光源的控制，其工作原理主要是通過   控制掩模臺的位置，具體指控制曝光視場的范圍，同時，在曝光過程中通過控制掩模板、硅片等進(jìn)行同步曝光過程，從而減少光強(qiáng)照射在非目標(biāo)區(qū)域，進(jìn)而提高曝光效率。由此可見，高速狹縫掃描系統(tǒng)對光刻機(jī)的生產(chǎn)精度有著重要的影響，對提高其生產(chǎn)效率有重要作用。

   平臺的運(yùn)動指標(biāo)，主要包括：X方向運(yùn)動指標(biāo)，Y方向的運(yùn)動指標(biāo)，及行程指標(biāo)。接下來完成對抽離出的系統(tǒng)的實(shí)物搭建。首先完成實(shí)際系統(tǒng)重要模塊的元器件的選型，主要包括：驅(qū)動元件一一電機(jī)的選型，測量元件一一光柵尺的選型，還有本文主要   的重力補(bǔ)償元件一一重力補(bǔ)償氣缸的選型，接下來對選定好的各軟硬件進(jìn)行初步的調(diào)試，進(jìn)而完成本課題實(shí)驗(yàn)平臺的搭建。較后，針對搭建好的平臺設(shè)計(jì)初步的控制方案并進(jìn)行實(shí)驗(yàn)探究，驗(yàn)證平臺的可行性。并引出本平臺存在的問題，即本課題需要   的，重力補(bǔ)償氣缸中存在的摩擦問題。本課題選用的重力補(bǔ)償氣缸，本身摩擦其實(shí)很小，但是考慮到平臺的精度要求，對其進(jìn)行補(bǔ)償是很有   的。